第924章 光刻机大突破
“今天，我们正式向大家宣布，困扰了业界十多年时间的光刻机之壁，正式被我们AMSL公司破除了从现在开始，70nm的制程就不再将是光刻机的极限，我们即将进入个位数的光刻机新时代！”此时此刻，面对着台下数以百计的记者,AMSL公司的负责人，用无比激动的声音说道
2005年7月1号，这一天对于AMSL公司来说，绝对是最值得历史铭记的一天，因为在这一天，AMSL正式召开了新闻发布会，向全球发布了自家公司生产的新品，也是全新的XT系列的第一台产品XT:
在舞台上上面，这位负责人激情澎湃的向查一下所有观众说明这台设备的数据,而记者们也丝毫不吝啬自己的胶卷，纷纷记录下这令人激动的历史一刻
不过台下比记者更多的其实是各家科技企业的代表们，他们的表情或激动或深沉或有些玩味，不过他们都明白，恐怕整个光刻机市场要就此改写了
之前说过，从90年代中期开始，光刻机的发展就基本上陷入了停滞状态因为光源技术的限制，导致人类始终无法生产70纳米制成以下的光刻机，也就无法制作相应的芯片
芯片之所以拥有恐怖的运算能力，其实就是先在单晶硅上面裹一圈绝缘层，然后再用极细的光线烧掉覆盖下的绝缘层
就好像把光线变成了笔，直接在单晶硅上面画下了一个又一個的半导体，最终形成了一枚拥有恐怖运算能力的计算机芯片
在最初的时候,人类画的线是用手画的,细度是毫米级别的，所以一个单晶硅芯片上面只能画几个半导体
后来变成了经过了精度加工的金属模具来压,但这样线的细度也不过是毫米级别的,顶多只能够画几百上千个半导体而已
直到有人发现了，可以利用光线在单晶硅上面刻画，于是第1台能够光刻机诞生了，但只能够刻画毫米，也就是10微米左右的线条，在一片单晶硅上面也就是上万个半导体而已
不过在人类不断的突破下，不断的更换光源和镜头，将光线也变得越来越细，最后也就成了现在的70nm级别制程的光刻机了能够在一片单晶硅上面刻画上千万的半导体
但这也顶天了，到90年代中期，人类就发现不管是镜头还是光源，人类都已经突破到极致了除非能够弄到比激光和紫外线还要细的光源，或者干脆换掉光，用另外一种方式来刻画，否则这就是一个无法突破的死穴
但10多年的时间，没有任何一家企业能够做到这一点，而光刻机的发展限制，也就导致了芯片制作精度被限制住了,所以这10多年的时间里面，计算机芯片本身的硬件技术是没有什么发展的
但相应的软件技术,也就