第593章【新的技术痛点——光刻胶】
蔚蓝海岸实验室，紫星光刻机无尘工作室
今天一早，罗晟接到消息便来到了这里，此时在这间两万多平米的无尘室，几十名工程师和罗晟都穿着工作无尘服在里面，的手里正拿着一块晶圆流片反复观察欣赏，这尺寸间的艺术正是紫星光刻机的杰作
站在身边的一位工程师兴奋使然的道：“光源的转换效率达到了一致，也实现了正确的控制，团队攻克了250瓦光源，客户可以达到每小时155片晶圆吞吐量，而在实验室里，则是可以实现超过300瓦的光源功率，完成最后的测试紫星设备就可以正式出货了”
全球几家顶尖的芯片制造商一直以来都坚持250瓦的光源功率是达成每小时155片晶圆生产量吞吐的必要条件，而ASML与光源技术供货商Cymer到现在为止还未能实现这一光源功率目标，这家公司两年前被ASML收购，但进展有限，这也是ASML在进来发展不顺的原因，虽说们已经提前一步搞出了极紫外光刻机了
罗晟把手里的流片交给旁边的工程师，笑道：“干得不错，们现在可以有底气说出半导体制造设备最重要的光刻机，们领先世界了，国内的半导体厂商拿着大把的钞票去求着ASML购买还得看对方心情这种局面，该结束了”
在场的人听到这话也是倍感振奋，在罗晟的话音刚落后，都止不住内心的激动心情而鼓掌，为国产半导体事业里程碑式的突破而鼓掌，也为自己的事业为自己鼓掌
两千多个日日夜夜的奋战，不为别的，就为了争一口气
几万名工程师、研究员、几百家厂商配合，集中火力朝着一个点不断的发起火力冲击，而罗晟在这两千多个地球日照循环里，仅仅在极紫外光刻机设备的研发上就投入超过了1000亿美元，是ASML公司在极紫外光刻机研发投入的五倍之多
但毫无疑问，这一切都是值得的
被调来负责紫星光刻机项目的总监李淳胜道：“与业界2012年约25瓦的光源相比较而言，250瓦光源意味着十倍的进步而ASML的工程师在简报EUV生产经济学时很无奈的表示：250瓦光源功率永远都是明年的目标，哈哈”
国产半导体一直不如外国人，国内相关从业者的信心在很长一段时间是备受打击的，这一次的突破不但是切切实实的成果突破，也给国产半导体事业的有志之士们莫大的信心
信念这个东西听起来有点玄，尤其是从事科技工作，但有时候真的很重要，这是士气问题
紫星光刻机成功先于ASML公司的NXE搞定，虽然对方迟早会解决这个问题，并且也不会等太久了，但这在半导体设备领域绝对是里程碑